公告摘要：
磁控濺射金屬鍍膜機(jī)-公開招標(biāo)公告
招標(biāo)公告 1. 招標(biāo)條件 本招標(biāo)項(xiàng)目磁控濺射金屬鍍膜機(jī)招標(biāo)人為中國電子科技集團(tuán)公司第十一研究所，招標(biāo)項(xiàng)目資金來自自有資金，出資比例為100%。該項(xiàng)目已具備招標(biāo)條件，現(xiàn)對磁控濺射金屬鍍膜機(jī)進(jìn)行國內(nèi)公開招標(biāo)。 2. 項(xiàng)目概況與招標(biāo)范圍 2.1 招標(biāo)編號：ZKX202......
