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公告摘要：
等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)、硅基等離子體刻蝕機(jī)、InP基等離子體刻蝕機(jī)、GaAs基等離子體刻蝕機(jī)-公開(kāi)招標(biāo)公告
招標(biāo)公告 1. 招標(biāo)條件 本招標(biāo)項(xiàng)目等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)、硅基等離子體刻蝕機(jī)、InP基等離子體刻蝕機(jī)、GaAs基等離子體刻蝕機(jī)招標(biāo)人為華中光電技術(shù)研究所（武漢），招標(biāo)項(xiàng)目資金來(lái)自國(guó)撥資金，出......
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