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公告摘要：
綜合樓D座（研發(fā)平臺(tái)）一層、二層凈化改造項(xiàng)目中標(biāo)公示
工程編號(hào) F0SG202400760 建設(shè)單位名稱(chēng) 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 工程名稱(chēng) 綜合樓D座（研發(fā)平臺(tái)）一層、二層凈化改造項(xiàng)目 建筑規(guī)模 2075平方米 建設(shè)地點(diǎn) 北土城西路3號(hào) 中標(biāo)候選人 中國(guó)電子......
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